美打击中晶片业 两国停卖曝光机给中企

（中央社华盛顿6日综合外电报导）美国扩大遏制中国崛起的运动。知情人士透露，美国正在向荷兰施压，要求禁止艾司摩尔（ASML Holding NV）向中国出售制造全球大量晶片至关重要的主流技术。

华府提议的限制措施，将使向中国出售最先进系统的限制范围进一步扩大，企图阻止中国成为全球晶片生产领导者的计画。如果荷兰同意，目前禁止进入中国的晶片制造设备范围和类别将大幅扩大，从而可能令中芯国际和华虹半导体等晶片制造商受到沉重打击。

知情人士说，美国官员正在游说荷兰当局禁止ASML出售部分旧款的深紫外光（DUV）曝光机。这些机器比先进技术落后一代，但仍然是制造汽车、手机、电脑乃至机器人所需的某些较不先进晶片的最常用设备。

知情人士表示，美国商务部副部长葛瑞夫兹（Don Graves）5月底至6月初访问荷兰和比利时，讨论供应链问题时提出此要求。当时葛瑞夫兹还参观ASML位于费尔德霍温（Veldhoven）的总部，并会见执行长韦尼克（Peter Wennink）。

知情人士说，荷兰政府尚未同意对ASML向中国晶片制造商出口的任何额外限制，因为此举可能会伤害荷兰与中国的贸易关系。由于无法获得荷兰政府的出口许可证，ASML已经无法将最先进、每台售价约1.6亿欧元的极紫外光（EUV）曝光机销往中国。

美国商务部和荷兰外交部拒绝置评。

ASML发言人说：“讨论并不是新的。尚未作出任何决定，我们不对传言加以臆测或评论。”

ASML是全球最大半导体曝光机供应商，这些机器在半导体制造过程中占据极为重要地位。ASML在此类设备市场的主导地位，意味着进一步切断中国取得ASML产品的管道，将挫败这个亚洲国家在关键电子元件生产方面实现更加自给自足的雄心。

其中一位知情人士说，美国官员还试图向日本(专题)施压，要求日本停止向中国晶片制造商提供相同的技术。日本尼康（Nikon）与ASML在曝光机领域互为竞争对手。

尼康发言人说：“我们没有关于此事的讯息。”