中国造出全球首台成像22纳米光刻机

据成都电视台26日报道，成都中科院光电所微细加工光学技术国家重点实验室研制出来的SP光刻机是世界上第一台单次成像达到22纳米的光刻机。

该所结合多重曝光技术，可以用于制备10纳米以下的信息器件。

报道强调，这不仅是世界上光学光刻的一次重大变革，也将加快推进工业4.0，实现中国制造2025愿景。

长期以来，中国的光刻技术落后于先进国家，成为工业现代化进程的一块短板。

2006年，科技部提出了光刻技术的中长期规划，希望中科院的国家重点实验室，能找到一条绕开国外技术壁垒，具有自主知识产权的光刻路径。

光电所SP光学光刻机就是绕开了传统的193纳米曝光的技术路线，利用长波长光源也可以得到一个突破衍射极限的分辨率的图形，所以在成本上安全性方面上都会有一个很大的提升，是完全具有知识产权的原创性技术。