28nm光刻机 中国离半导体又进一步？

上海微电子装备公司是中国开发光刻机主力企业，但光刻机分辨率严重落后于全球主要光刻机供应商。（上海微电子装备公司官网）

据资讯科技网站TomsHardware12月7日报道，该工具可以使用28nm制程技术生产芯片，并依赖于中国和日本生产的组件。因此，该工具不依赖美国制造的设备，这在中美持续的贸易战中变得越来越重要。

报道称，作为中国半导体产业自给自足的多方面计划的一部分，中国不仅鼓励芯片开发和本地制造，而且还支持半导体生产设备的制造。目前上海微电子官方网站上最高端的光刻机为SMEE SSA600/20，是一种浸入式深紫外光刻工具，配备了193nm的氟化氩（ArF）激光器。英特尔（Intel）和台积电（TSMC）等公司早在2004年就开始使用浸入式DUV光刻技术，因此SSA600/200很难说是一款先进的设备。

SSA600/20机器的后继者将继续使用ArF光源，根据Verdict的说法，即将推出的光刻机有望可以使用28nm工艺技术制造芯片。

台积电早在2011年就采用了28nm工艺技术，使用的是阿斯麦（ASML）的光刻机，因此即使上海微电子在2021年第四季度出货制造28nm芯片的设备时，也比全球第一大光刻工具供应商落后至少10年。不过目前28nm工艺技术的应用相当广泛，在未来很多年内，28nm工艺技术还将继续用于不需要FinFET晶体管的芯片。

与此同时，那些已经采用其28nm工艺技术，使用ASML的芯片制造商，很可能不得不重新设计其节点，以使用上海微电子的新设备。因此，虽然距离中国最先进的光刻机还有一年左右的时间，但要被本土半导体行业广泛采用还需要一定的时间。

上海微电子的新一代ArF DUV光刻机无疑是中国在半导体行业实现自给自足的一步。同时，为了不依赖国外的技术，中国还有一个关键因素迫切需要解决和发展。目前所有对现代芯片开发至关重要的先进电子设计自动化（EDA）开发工具都来自美国的公司。在中国公司能够设计出与Cadence、Mentor Graphics或Synopsys公司的产品具备有竞争力之前，中国开发的所有芯片都将使用美国的软件进行设计。